ニュース
フォトレジスト溶液やSOG溶液の粒子を0.1μmから測定可能な液中パーティクルセンサを発売【リオン】
2013年1月17日
リオンは、新光学系を採用し、背景光を大幅に低減することで、今まで難しかったフォトレジスト溶液中の粒子を0.1μmから測定可能な液中パーティクルセンサ「KS-41B」を開発し、2013年1月28日から販売を開始します。
フォトレジスト溶液中パーティクルセンサについて
フォトレジストは、半導体素子の製造において、ウェハへ集積回路パターン転写を行う工程（フォトリソグラフィ）で用いられています。集積回路のデザインルールが微細化される中で、歩留まりに影響するフォトレジスト溶液中のパーティクル管理が必要とされています。
今回開発した液中パーティクルセンサ「KS-41B」は、フォトレジスト溶液中において0.1μmの粒子検出を可能にしました。これは新開発した光学系によるもので、従来機種と比較して、レーザの強度増加と短波長化による粒子感度の向上、および受光部のフォトダイオードの改良による背景光低減により実現しました。また、フォトレジストに加え、半導体製造プロセスの平坦化工程で使用されるシリカ（SiO2）系皮膜形成用塗布液「SOG」の管理にも適しています。
さらに、背景光が発生しない液体の場合、最小可測粒径は0.07μmまで対応します。
液中パーティクルセンサ「KS－41B」の概要
1． 主な用途
半導体製造プロセスにて使用されるフォトレジスト溶液やSOG溶液の清浄度管理
2． 特長
1）最小可測粒径0.1μm。背景光が発生しない液体の場合は0.07μmまで対応可能
2）粒径区分は0.1～0.5μmの範囲内で、最大10段階（コントローラ「KE-40B1」から設定）
3）定格試料流量は5mL/min
4）受光部に多チャンネルフォトダイオードを採用
5）波高分析ソフトウェア「KF-50A」を使用し、背景光によるノイズの状態を測定可能
6）レーザ消灯機能が付き、ユーザビリティが向上
測定システム例
製品の詳細は、こちらのPDFカタログをご覧ください。
リオン株式会社ホームページはこちら
