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測定スループット 従来機種比2倍、フォトマスク用MVM-SEM「E3650」を発表【アドバンテスト】
2018年11月29日
測定スループット 従来機種比2倍、フォトマスク用MVM-SEM「E3650」を発表
Products
株式会社アドバンテスト（本社：東京都千代田区 代表取締役 兼 執行役員社長：吉田 芳明）（以下当社）は、最新MASK MVM-SEM（Multi Vision Metrology Scanning Electron Microscope: 多次元観察・測長走査型電子顕微鏡）「E3650」を発表します。独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。
「E3650」は、フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを現行機種「E3640」より２倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、および複雑化するパターニングによる測定点数の増加に対応可能な高スループットを実現しました。最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。
なお、本製品は、2018年12月12日から14日まで東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2018」に出展する予定です。
MASK MVM-SEM® E3650
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